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金相制樣中試樣磨拋工作的目的是去除變形層(深干擾層)露出真實樣品并達到光滑平整的觀測表面。 去除變形層后獲得平整光滑無劃痕的樣品表面叫做樣品拋光,通常使用拋光布盤+拋光液/膏/粉來實現。 |
拋光過程可以分為初拋和終拋兩個過程, 初拋會使用淺層強支撐織物來去除去薄或者預拋過程中產生的較深劃痕,獲取平整的樣品表面, 終拋會使用深層軟支撐來去除剩下的較淺的細微劃痕,達成完美光滑觀測面。 | |
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預拋時底部由硬質磨盤支撐,金剛石懸浮液只能磨薄表面接觸損傷層并且會產生新的變形層(深干擾層) | 預拋時底部由軟質織物支撐,金剛石懸浮液在消除表面接觸損傷層和變形層時不會產生新的變形層(深干擾層) |
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